磷化氢在半导体工艺中的用途 磷化氢（PH3）是一种无色、有毒、易燃的气体，但在半导体工艺中，它却是一种非常重要的材料。磷化氢被广泛用于半导体工艺中的化学气相沉积（CVD）和化学气相刻蚀（CPE）等方面，具有重要的应用价值。本文将介绍磷化氢在半导体工艺中的应用。 1. 磷化氢在CVD中的应用 CVD是一种将气态前体物质沉积在基片表面形成薄膜的技术。在半导体工艺中，CVD被广泛应用于制备各种半导体材料，如SiO2、Si3N4、GaAs、InP等。磷化氢在CVD中被用作磷化物前体材料，用于制备磷化硅

磷化氢浓度检测仪简介 磷化氢是一种有毒气体，具有易燃、易爆等特性，因此在化学、半导体、电子等领域中得到了广泛应用。但同时也带来了安全隐患。为了保障工作场所及人员的安全，需要使用磷化氢浓度检测仪进行检测。磷化氢浓度检测仪是一种专门用于检测磷化氢气体浓度的设备，能够快速、准确地检测磷化氢气体的浓度，为工作场所的安全保驾护航。 磷化氢浓度检测仪的工作原理 磷化氢浓度检测仪的工作原理是基于化学传感器的原理。化学传感器是一种将化学反应转化为电信号的传感器，其内部包含了一些敏感元件，当敏感元件与磷化氢气体